220kV地區(qū)變電所電氣一次系統(tǒng)設(shè)計(jì)01
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積極為MVLV配電變壓器的變電站屏蔽設(shè)計(jì)
電機(jī)工程學(xué)系,意大利拉奎拉大學(xué),67040拉奎拉,波焦迪Roio
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摘要:低頻磁場屏蔽是通過使用美聯(lián)儲積極的線圈產(chǎn)生磁場相反的事件之一,降低總的磁場系統(tǒng)。本文提出一個真正的主動防御系統(tǒng)的設(shè)計(jì),以減輕位于拉奎拉大學(xué)的工程建設(shè)中的MVLV配電變壓器的變電站的磁場。主動防御系統(tǒng)的設(shè)計(jì)開發(fā),從開始的MVLV變電站內(nèi)的磁場測量獲得的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。
引言
最近暴露限值對人體的低頻電場和磁場的極低頻(ELF),減少需求領(lǐng)域[I] - [9]。已成為廣大市民日益意識到從暴露到極低頻磁場可能產(chǎn)生的影響。最近,極低頻磁場在WHOOARC研究已被列為2B組“可能致癌”兒童白血病[我]的流行病學(xué)研究的基礎(chǔ)上。
傳統(tǒng)的被動屏蔽技術(shù)并不總是方便,以減輕因?yàn)橐恍?shí)際應(yīng)用中往往需要大量的材料,可以建立足以減輕低頻磁場屏蔽的ELF磁場領(lǐng)域。一個更好的解決方案是設(shè)計(jì)一個系統(tǒng)低頻電流線圈,即主動屏蔽,從而產(chǎn)生令人不安的一個磁場相反,以減少總的磁場[6] - [7]。通過這種方式,它是有可能獲得良好的屏蔽性能,往往在較低的成本在比較被動的屏蔽技術(shù)[8] - [9]。
本文提出了發(fā)展一個活躍的屏蔽配置為中等電壓(MV)/低電壓(LV)配電變壓器位于變電站在大學(xué)CAquila的工程大樓。
MEDIUMV OLTAGELOW電壓分布變電站
年審MVLV變電站配置為代表的電力電纜和酒吧的布局與圖。 1。在變電站,它是可能的,以確定在中等電壓20千伏,變壓器20 kVl0.4酒吧千伏和一個開關(guān)板的低電壓0.4千伏母線分配4 LV的上升主面板。
如圖一個變電站的計(jì)劃。 2,MV和LV面板和變壓器隔間代表。
圖1素描的MVLV配電變壓器變電站內(nèi)的工程建筑位于拉奎拉大學(xué)。
圖2地圖與測量MVLV變電站變電站內(nèi)的點(diǎn)(+)。
利用已測磁場萬德爾和Goltermann的3場分析儀系統(tǒng)在xy點(diǎn)(由圖2中的“+”符號表示)飛機(jī)在兩個高度:1。 M2和-1.7米,根據(jù)意大利的技標(biāo)準(zhǔn)[6]。相鄰的距離betweentwo測量點(diǎn)已經(jīng)確定為25厘米沿X軸和Y軸。的空間分布在xy平面的磁通密度B,測量Z =1.2 M和F1.7米,在圖所示。 3和4為一個LV對9M負(fù)載)A.表明,這些測量值沒有一個主要組成部分的磁變電站內(nèi)場,但所有的字段組件沿x,y和z軸。其百分比取決于在該領(lǐng)域的測量點(diǎn)。為了設(shè)計(jì)一個合適的活動線圈系統(tǒng)的每個組件磁通密度由BJ(乙,必須檢查分別由獨(dú)立的活性線圈和屏蔽。
圖3的測量r.m.s.的的地圖磁通密度B在X-Y平面在z = L.2米的PT。
數(shù)值當(dāng)日&
在內(nèi)MViLV分布的磁通密度變電站取決于流動的電流為導(dǎo)體。一個直接的電流在我生產(chǎn)周圍的空間磁通密度B:
AR = RR'的立場之間的差異觀察點(diǎn)P的位置矢量矢量rR'的元素DL“,方程(一)被認(rèn)為是有效的也計(jì)算在低頻磁場同質(zhì)區(qū)域。為實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的導(dǎo)體棒和離散線部分電纜已已知電流流。通過一個簡單的數(shù)值計(jì)算程序,已計(jì)算的磁感應(yīng)強(qiáng)度矢量B疊加。圖5顯示的計(jì)算和測量沿x軸的磁通密度分布?0。 25米,?1。平方米。考慮困難確定確切位置的來源,因此近似??的值假定'的距離導(dǎo)體之間,一個很好的協(xié)議之間的測量可以觀察和計(jì)算值。
圖4測量r.m.s.地圖磁通密度B在X-Y平面在z =1,PT
ACTM盾構(gòu)設(shè)計(jì)
通過檢查實(shí)測地圖,有可能設(shè)計(jì)一個積極的線圈產(chǎn)生磁場B,相反在這樣的事件二總場BT= B的+ B可以降低。
從(一)有可能獲得磁場生產(chǎn)方形回路電流假設(shè)平方米的一環(huán)的尺寸2×26AN d的平行xy平面距離為d,磁通密度的組件主動屏蔽,乙,乙,和B,在通用的點(diǎn)P(X,Y,Z):
其中,xi,易分別為沿x軸的預(yù)測和Y軸的通用點(diǎn)之間的距離P(X,Y,Z)和線圈i個后起之秀,5 = dxi2+一2+(Z - D)?是第i之間的距離后起之秀的線圈和P點(diǎn),如圖所示。 6。為幾個積極線圈磁場的組件應(yīng)用疊加可以得到。
測量圖5(a)和計(jì)算機(jī)(二)r.m.s.磁通量沿平方米D R A N0?1 thex軸。密度。 2 5米。
一個20平方米的線圈系統(tǒng),放置在y =-1.5米內(nèi)perimeterof xz平面,如圖所示。7,absorbinga2 A的電流相等,為了減輕已建成在三個cubiclesinside的MVLV變電站附近的磁場。無花果。 8日和9顯示X和Y-組件事件和總磁通量圖寶密度為900 A的LV負(fù)載和21.1.2米。10日和11日在同一個相同的組件條件,但在1?。 M7。在這些數(shù)字的行確定由符號'A'代表實(shí)測事件磁通密度元件和線路確定由符號'B'的總的計(jì)算磁磁通密度的組成部分。最大衰減在獲得入射場是最大的區(qū)域,但在鄰近的放大磁場活動線圈產(chǎn)生。
圖6在他們z平面方形環(huán)路。
圖7主動屏蔽配置。
圖12(行'A')顯示測量的X組件事件磁通密度沿Y軸?4。 7 5米和~~1。平方米。一個100平方米的線圈系統(tǒng),放在XZ變電站墻,在y =-1.5米,由電流饋送15,已被用來屏蔽磁場密度?4 Z-?墻外側(cè)。 7 M5。磁通密度,這個主動防御系統(tǒng)的存在,已測所提出的數(shù)值方法和計(jì)算。 “符號“B”所確定的行顯示測量億元符號“C”計(jì)算確定的行在相同的時間點(diǎn)的總磁通密度。
圖8實(shí)測入射場:(一)和y分量計(jì)算總場積極布賴與y分量屏蔽(B),T?0。 25米,1。平方米。
圖9測量入射場z分量B(a)和計(jì)算總場與活躍的z分量億元屏蔽(B),在y= O M?1。平方米。
圖10測量事件fieldy:(一)和組件計(jì)算總場積極BTY與y分量屏蔽(B),在y= 0 m和?1。M7
圖11測量入射場z分量B(a)和計(jì)算總場與活躍的z分量億元屏蔽(B),T P0米?1。M7。
圖12測量入射場X-B組分(A),測得的總場x分量BN(b)和計(jì)算BN(c)與主動屏蔽在A。 75米?1。平方米。
結(jié)論
在本文的主動屏蔽技術(shù)已被用來減少低頻磁場。一個設(shè)計(jì)主動防御系統(tǒng)的中壓/低壓配電變電站位于工程建設(shè)拉奎拉大學(xué)已經(jīng)提出。
BAS方形線圈系統(tǒng)已經(jīng)能夠生產(chǎn)對面的事件的磁場分量。由于事件領(lǐng)域提出了一個空間的行為非??s進(jìn),減少磁場強(qiáng)度困難。
為了減輕在接近磁場三間房方形線圈系統(tǒng)已被使用。獲得最大限度的降低磁通量密度為60%左右。
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