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1、第四節(jié) 薄膜等厚干涉 一、薄膜干涉 我們知道,兩束光產(chǎn)生干涉的條件(又稱相干條件)為: (1) 頻率相同; (2). 相位差恒定; (3). 光矢量振動(dòng)方向相同 我們講的薄膜指的是由透明介質(zhì)形成的厚度很薄的一層介質(zhì)膜。 反射光 2 反射光 1 S 1 2 2n d A B1n 1n i D C 過 A點(diǎn)向 b光線作一垂線 AD, 自 A和 D到透鏡的焦點(diǎn)的距離相 等,所以 a光和 b光的光程差就 產(chǎn)生于自 A點(diǎn)起 a光在薄膜內(nèi)所 走光程同 b光所走的光程之差。 DCnBCABn 12 )( 由前面所學(xué)知,當(dāng)光從光疏介質(zhì)射向光密介質(zhì),在分界面反 射時(shí)有半波損失。即 2)( 12 DCnBCABn
2、 A、 C兩點(diǎn)的距離很近,薄膜厚度可近似看著相等,為 d 反射光 2 反射光 1 S 1 2 2n d A B1n 1n i D C c o s dBCAB id t giACDC s in2s in s ins in 21 nin 22 12 DCnABn 2s in2c o s2 22 nd t g dn 2)s in1(c o s2 22 dn 2c os2 2 dn 減弱 加強(qiáng) 2)12(2 s i n2 22122 k k innd . .2,1,0 k 同理當(dāng) 21 nn 反射光 2 反射光 1 S 1 2 2n d A B1n 1n i D C 2、對(duì)于厚度均勻的平面薄膜來說 ,
3、光程差是隨著光線的傾角 (入射 角 )而變化 ,這樣不同的干涉明條紋和暗條紋相應(yīng)的具有不同的傾 角 ,而同一干涉條紋上的各點(diǎn)都具有同樣傾角 ,這種干涉條紋叫等 傾干涉。 3、對(duì)透射光來說 ,也有干涉現(xiàn)象 ,無(wú)半波損失 innd 22122 s in2 當(dāng)反射光相互加強(qiáng)時(shí) ,透射光將相互減弱 ,反之亦然 ,它們互補(bǔ) 4、上面討論的是單色光 ,若所用的是復(fù)色光 ,則由于各種波長(zhǎng)的 光各自在薄膜表面形成自己的一套干涉條紋,互相錯(cuò)開,因而在 薄膜表面形成彩色的花紋。 5、觀察薄膜干涉,對(duì)膜的厚度有無(wú)限制呢? 若膜的厚度太大,會(huì)使光程差 大于光源的相干長(zhǎng)度。 、如果照射到薄膜上的光都是以相同入射角入射
4、,即兩光線相 干點(diǎn)的光程差只由薄膜的厚度決定 ,由此干涉圖樣中同一條干涉 條紋下面所對(duì)應(yīng)的膜厚是一樣 ,這種條紋稱為等厚干涉條紋。 討論 : 尖劈狀肥皂膜的干涉圖樣 (左圖為倒象 ) 1. 劈尖干涉 l dk dk+1 明 紋 中 心 暗 紋 中 心 2 兩塊平面玻璃片,一端接觸,另一端夾一薄紙片,即在兩玻 璃片之間形成一劈尖型的空氣薄膜,劈尖的夾角 很?。霐?shù)量 級(jí)) 當(dāng)平行單色光垂直玻璃表面入射 時(shí),在空氣劈尖上下表面引起的 反射光將形成相干光, .2,1,0 2)12( .2,1 22 kk kk d 減弱 加強(qiáng) 同一明條紋或同一暗條紋都對(duì)應(yīng)相同厚度的空氣層 21 kk dd 2. 光垂
5、直入射時(shí) ,兩相鄰條紋對(duì) 應(yīng)的空氣層厚度差都等于 sin 2l 相鄰條紋之間距 l dk dk+1 明 紋 中 心 暗 紋 中 心 2 討論 3. 空氣劈尖頂點(diǎn)處是一暗紋 ,這是半波損失的一個(gè)有力證明。 1、干涉特點(diǎn):在與棱平行的地方空氣層厚度處處相等,所以干 涉條紋是平行棱的明暗相間的直條紋 0d 2/ 設(shè)劈尖夾角 , 相鄰明條紋 (或暗條紋 )之間距離 l 則 .2s in 1 kk ddl 尖的劈尖上看到。所以干涉條紋只能在很 無(wú)法辨認(rèn),相當(dāng)大時(shí),條紋將密得小,條紋密,當(dāng)大,一定,當(dāng) l l dk dk+1 明 紋 中 心 暗 紋 中 心 2 實(shí)際用途; 1. 測(cè)量微小角度或細(xì)絲直徑 l
6、2 例:將細(xì)絲放在兩塊平面玻璃板之間, 如圖,已知用綠光, nm5 4 6 1 mLDlcmLmml 54.14,152,20,5 D 不變,只增減薄膜厚度,則等厚干涉條紋并不改變其條紋 間距,而只發(fā)生條紋移動(dòng),厚度增加,條紋向棱的方向移動(dòng), 即厚度每增加 時(shí),條紋向下移動(dòng)一級(jí),數(shù)出條紋移動(dòng)的數(shù) 目,即可測(cè)知厚度改變多少。 (測(cè)量精度達(dá) 以上 )。干涉膨 脹儀就是根據(jù)這種原理形成的,用它可以測(cè)量很小的固體樣品的 熱膨脹系數(shù)。 2/ 10/ 2 測(cè)量長(zhǎng)度的微小改變 薄膜上表面 面上移 移動(dòng)后條紋位置 移動(dòng)前條紋位置 k k-1 k k+1 干涉條紋的移動(dòng) h 待測(cè) 塊 規(guī) 標(biāo) 準(zhǔn) 塊 規(guī) 平晶
7、待 測(cè) 樣 品 石 英 環(huán) 平晶 干涉膨脹儀 等厚條紋的應(yīng)用 如圖,待測(cè)工件表面上放一平板 玻璃,使其之間形成空氣劈尖。以單 色光垂直照射玻璃表面,用顯微鏡觀 察干涉條紋。由于工件表面不平,觀 察到的條紋如圖,根據(jù)條紋的彎曲方 向,說明工件表面上的紋路是凹還是 凸?紋路深度或高度可表示為 2b aH 解 :同一條紋所對(duì)應(yīng)的空氣膜厚度是相等的 B點(diǎn)的厚度 C點(diǎn)的厚度 凹厚度每增加時(shí),條紋向下移動(dòng)一級(jí), 即移動(dòng) b,現(xiàn)在條紋移動(dòng)了 a,所對(duì)應(yīng)的厚度 變化 Hab :2: 即可測(cè)量工件與標(biāo)準(zhǔn)板的偏差值。 2 aH b 3.檢查工件表面質(zhì)量 等厚條紋 待測(cè)工件 平晶 三 . 牛頓環(huán) d C A B R
8、 r O 22 d 光程差 222 )( dRrR S L A M B T 入射光垂直照射 ,i=0 干涉特點(diǎn):中心 疏而邊緣密的一 組同心環(huán)狀條紋。 R rdddR 2 2 2 略去,所以又 牛頓環(huán)越來越密。增加得快,所以看到的增加得快 r rd 2 減弱 加強(qiáng) 2 )12(22222 2 k k R rd .2,1,0 .2,1 k k 中心 d=0是暗斑。反射光的明暗紋所對(duì)應(yīng)的半徑分別為 2 )12( R kr k .3,2,1k 明紋 kRr k .3,2,1,0k 暗紋 mRrr kmk 22 (1) 測(cè)透鏡球面的半徑 R 已知 , 測(cè) m、 rk+m、 rk, 可得 R (2) 測(cè)
9、波長(zhǎng) 已知 R, 測(cè)出 m 、 rk+m、 rk, 可得 (3) 檢測(cè)透鏡的曲率半徑誤差及其表面平整度 (4) 若接觸良好 ,中央為暗紋 半波損失 樣板 待測(cè) 透鏡 條紋 討論 (5) 透射 圖樣 與反射圖樣互補(bǔ) Rm rr kmk 22 (1) 等傾干涉條紋 為 一系列同心圓 環(huán) ;內(nèi)疏外密 ;內(nèi)圓紋的級(jí)次比 外圓紋的級(jí)次高 條紋特點(diǎn) (2) 膜厚變化時(shí) ,條紋發(fā)生移動(dòng) 。 當(dāng)薄膜厚度增大時(shí) , 圓紋從中 心冒出 , 并向外擴(kuò)張 , 條紋變 密 i P i 1n d 2n 1n (3) 使用 面光源 條紋更清楚明亮 (5) 透射光圖樣 與反射光圖樣互補(bǔ) i E 二 . 等 傾干涉 觀察等傾條
10、紋的實(shí)驗(yàn)裝置和光路 i n M L S f 屏幕 d 001.n 381.n 551.n 2r1r ,kknd 2102)12(2 nm1003814 5504 .nd 波長(zhǎng) 550 nm黃綠光對(duì)人眼和照像底片最敏感 。 要使照像機(jī) 對(duì)此波長(zhǎng)反射小 , 可在照像機(jī)鏡頭上鍍一層氟化鎂 MgF2薄 膜 , 已知氟化鎂的折射率 n=1.38 , 玻璃的折射率 n=1.55 解 兩條反射光干涉減弱條件 增透膜的最小厚度 增反膜 薄膜光學(xué)厚度( nd)仍可以為 4/ 例 但膜層折射率 n 比玻璃的折射率大 求 氟化鎂薄膜的最小厚度 說明 例:測(cè)量半導(dǎo)體薄膜氧化硅的 厚度,用 鈉光垂直照 射,測(cè)得 10條亮紋,且最右端處為一暗紋,求薄膜的厚度 2OSi 0A5896 )42.3,5.1 32 nn 1( 1 nd 2SiO 1n 2n 3n 解: 21 nn 光疏 光密,有半波損失 32 nn 光疏 光密,有半波損失 光程差 暗紋( 明紋 2)12 2 2 k k dn 對(duì) k值取法 棱邊 d=0, =0明紋 kdn 22 k應(yīng)取 9,即共有 9個(gè)間隔,且明紋與暗紋間隔為 24n 薄膜厚度: 22 42 nn kD 24 19 n m867.1 也可用暗紋計(jì)算。