射線檢測(cè) 第4章

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1、射線檢測(cè)復(fù)習(xí)題 第4章 （JB/T4730-2005通用部分和鋼材料部分） 選擇題 @.對(duì)于厚度差較大的工件進(jìn)行透照時(shí)，為了得到黑度和層次比較均勻的底片，一般做法是（ B ） A.提高管電流 B.提高管電壓 C.增加曝光時(shí)間 D.縮短焦距 @在同一個(gè)暗盒中裝兩張不同感光速度的膠片進(jìn)行曝光的主要目的是（ D ） A.為了防止暗室處理不當(dāng)而重新拍片 B.為了防止探傷工藝選擇不當(dāng)而重新拍片 C.為了防止膠片上的偽缺陷而重新拍片 D.用于厚度差較大工件的射線探傷，這樣在不同厚度部位都能得到黑度適當(dāng)?shù)牡灼? @.鉛箔增感屏上的深度劃傷會(huì)在射線底片上產(chǎn)生黑

2、線，這是因?yàn)椋? B ） A.鉛箔劃傷部位厚度減薄，對(duì)射線吸收減小，從而使該處透射線時(shí)增多 B.劃傷使鉛箔表面增大，因而發(fā)射電子的面積增大，增感作用加強(qiáng) C.深度劃傷與膠片之間的間隙增大，散射線增加 D.以上都對(duì) @.由被檢工件引起的散射線是（ C ） A.背散射 B.側(cè)向散射 C.正向散射 D.全都是 @.用鉛箔增感，焦距1200mm，曝光時(shí)間8min，得底片黑度1.5，現(xiàn)焦距為600mm，底片黑度不變，曝光時(shí)間應(yīng)為（ B ） A.1.6min B.2min C.1.25min D.4min @.控制透照厚度比K值的

3、主要目的是( A ) A.提高橫向裂紋檢出率 B.減小幾何不清晰度 C.增大厚度寬容度 D.提高底片對(duì)比度 @.小徑管環(huán)焊縫雙壁雙影透照時(shí),適合的曝光參數(shù)是( A ) A.較高電壓、較短時(shí)間 B. 較高電壓、較長(zhǎng)時(shí)間 C. 較低電壓、較短時(shí)間 D. 較低電壓、較長(zhǎng)時(shí)間 @.曝光因子表達(dá)了哪幾個(gè)參數(shù)的相互關(guān)系( C ) A.管電壓、管電流、曝光時(shí)間 B. 管電壓、曝光量、焦距 C.管電流、曝光時(shí)間、焦距 D. 底片黑度、曝光量、焦距 @.在哪一種情況下,底片的有效評(píng)定范圍會(huì)

4、超出搭接標(biāo)記以外( B ) A.環(huán)縫雙壁單影透照,搭接標(biāo)記放在膠片側(cè) B.環(huán)縫單壁外透法,搭接標(biāo)記放在膠片側(cè) C.縱縫單壁外透法, 搭接標(biāo)記放在射源側(cè) D.環(huán)縫中心透照法搭接標(biāo)記放在膠片側(cè) 問答題 @.何謂互易率? 答：從照相學(xué)引用來的一條定律，它指出，決定光化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)物質(zhì)量的條件，只總的曝光量相關(guān)，對(duì)于射線檢測(cè)來講，取決于輻射強(qiáng)度和時(shí)間的乘積，而與這兩個(gè)因素的單獨(dú)作用無關(guān)。對(duì)同一射源，如果透照焦距、管電壓、黑度、膠片及暗室處理?xiàng)l件不變，管電流與曝光時(shí)間的乘積臥射源活度與曝光時(shí)間的乘積為一常數(shù)?；ヒ茁煽梢鞛榈灼诙戎慌c總的曝光量相關(guān)，而與輻射強(qiáng)度和時(shí)間分別作用無

5、關(guān)。 @.何謂平方反比定律？其表達(dá)式是什么? 答：與焦距相比，射源可看成點(diǎn)源，在其照射方向上任意立體角內(nèi)取任意垂直截面，單位時(shí)間內(nèi)通過的光量子總數(shù)不變，但是由于截面積與到射源的距離的平方成正比，所以單位面積的光量子密度與距離的平方成反比，即射線強(qiáng)度與距離的平方成反比，這一規(guī)律稱之為平方反比定律，其表達(dá)式為：I1/I2=(F2/F1)2 @.何謂曝光因子？其表達(dá)式是什么?有何實(shí)際意義？ 答：將互易率和平方反比定律結(jié)合起來即可得到曝光因子，對(duì)同一射源，在管電壓、黑度、膠片及暗室處理?xiàng)l件不變的情況下，曝光量與焦距的平方的比值為一常數(shù)，其表達(dá)式為： 或 實(shí)

6、際透照工作中，對(duì)射線強(qiáng)度、時(shí)間和距離三個(gè)參數(shù)，如果需要改變一個(gè)或兩個(gè)參數(shù)，便可用曝光因子來計(jì)算其他參數(shù)，以獲得相同黑度的底片。 @.影響射線透照質(zhì)量的散射線是有什么效應(yīng)產(chǎn)生的？ 答：影響探傷質(zhì)量的散射線主要是由康普頓效應(yīng)和瑞利散射產(chǎn)生的，在射線能量很低（小于200keV）范圍內(nèi)，散射線由康普頓效應(yīng)和瑞利散射共同產(chǎn)生，在射線能量較高范圍內(nèi)，散射線主要由康普頓效應(yīng)產(chǎn)生。 @.控制散射線的措施有哪些？ 答：（1）使用鉛箔增感屏，吸收部分前散射線和背散射線（2）暗盒后襯鉛板，進(jìn)一步減少背散射。（3）使用鉛罩和鉛光闌，限制照射范圍，減少散射源。（4）采用鉛遮板或鋇泥屏蔽試件邊緣，減少

7、“邊蝕”效應(yīng)。（5）用流質(zhì)吸收劑或金屬粉末對(duì)形狀不規(guī)則及厚度差較大的試件進(jìn)行厚度補(bǔ)償，以減少較薄部分散射線對(duì)較厚部分的影響。（6）采用濾板去除射線中線質(zhì)較軟的部分，減少“邊蝕”效應(yīng)。（7）減小或去除焊縫余高，降低焊縫部位散射比。 @.小口徑管焊縫照相采用雙壁雙影法透照的不利因素有哪些？其改進(jìn)措施有哪些？ 答：小口徑管焊縫照相采用雙壁雙影法透照，對(duì)缺陷檢出的不利因素和改進(jìn)措施有以下幾點(diǎn)： （1）雙壁雙影法透照時(shí)，由于射源側(cè)焊縫比膠片側(cè)焊縫離開膠片的距離相差一個(gè)管子直徑，幾何不清晰度較大，影響小缺陷檢出率，可選擇小尺寸焦點(diǎn)射源，適當(dāng)增大焦距等措施。 （2）透照小口徑時(shí)射線的穿透厚度自中心向

8、兩端變化很大，易導(dǎo)致底片上中心部位黑度過大，邊緣部位黑度過小，為減少被檢區(qū)域不同部位的黑度差，宜適當(dāng)較高能量的射源，例如X射線可采用“高電壓，短時(shí)間”的透照工藝。 （3）由于管子直徑較小，散射線引起的邊蝕效應(yīng)比較嚴(yán)重?？刹扇≡谏渚€機(jī)窗口處加濾板，或采用鉛罩屏蔽焊縫以外部分等措施減少邊蝕。 （4）雙壁雙影法透照時(shí)，焊縫被傾斜投影到膠片上，缺陷影象會(huì)發(fā)生畸變，為減少畸變，應(yīng)控制透照角度和橢圓開口間距。 @.選擇射線能量時(shí)應(yīng)考慮哪些因素？ 答：（1）根據(jù)試件的材質(zhì)和厚度確定，保證能穿透試件為射線能量的下限，保證足夠的靈敏度為射線能量的上限。 （2）根據(jù)試件本身厚度變化情況確定，當(dāng)被檢

9、區(qū)域厚度變化較小時(shí)，從增大對(duì)比度的角度，宜采用較低管電壓；當(dāng)被檢區(qū)域厚度變化較大時(shí)，需兼顧寬容度，減小對(duì)比度，宜采用較高管電壓。 （3）射線能量不僅影響底片對(duì)比度，而且影響固有不清晰度和散射比，這些都應(yīng)在選擇射線能量時(shí)加以考慮。 @.選擇焦距時(shí)應(yīng)考慮哪些因素？ 答：（1）應(yīng)滿足幾何不清晰度的要求； （2）應(yīng)保證在滿足透照厚度比K的條件下，有足夠大的一次透照度L3； （3）為減少因照射場(chǎng)內(nèi)射線強(qiáng)度不均勻?qū)φ障噘|(zhì)量的影響，焦距可取大一些； （4）由于射線強(qiáng)度與距離平方成反比，焦距的增加必然使曝光時(shí)間大大延長(zhǎng)，因此，焦距在保證上述三條件的情況下，盡可能小。 采用外透法單壁透照一環(huán)

10、焊縫，搭接標(biāo)記應(yīng)擺放在何處 @.制作曝光曲線時(shí)應(yīng)固定哪些條件？曝光曲線的變化參量有哪些？ 答：曝光曲線的固定條件有：⑴X射線機(jī)，⑵焦距，⑶膠片型號(hào)，⑷增感方式，⑸暗室處理?xiàng)l件，⑹基準(zhǔn)黑度，⑺試件材質(zhì)。 曝光曲線的變化參量有：穿透厚度，曝光量，管電壓。 計(jì)算題 1.用XXQ2505X射線機(jī)，透照一容器焊縫，選用管電壓200KV，焦距650mm，管電流5mA，曝光時(shí)間4min，底片度D1＝1.2，若其 它條件不變，管電流也不變，將底片黑度提高到2.0，求此時(shí)的曝光時(shí)間為多少?(本次使用的膠片特性曲線圖見右圖) 解：由特性曲線查知

11、 黑度變化時(shí)的曝光量修正系數(shù) 故獲得黑度為2.0時(shí)所需正確曝光量為： t2=t1×ψD=4×100.2=6.4min 答：此時(shí)曝光時(shí)間為6.4min。 2.某一工件焊縫，采用192Ir源透照，當(dāng)焦距為1600mm，曝光時(shí)間為90min。經(jīng)過5個(gè)月后，仍用該γ源透照同一部位焊縫，其它條件不變，只將焦距改為800mm，保持原來的底片黑度。求此時(shí)所需曝光時(shí)間。(注T1/2=75天) 解：已知 時(shí)間T＝30×5＝150天 半衰期次數(shù)n＝150÷75＝2 F1＝1600mm F2＝800mm t1＝90min 求 t2＝? 　　　 設(shè)放射源當(dāng)前的活度為，5個(gè)月后的活度為Q2，則 Q2＝Q1/2n 根據(jù)曝光因子： 答：5個(gè)月后仍需曝光90min。 3.一條雙面焊直焊縫長(zhǎng)5.3m，母材厚度20mm，余高高度2mm，焦距取600mm，試按AB級(jí)確定其最少透照次數(shù)、一次透照長(zhǎng)度、搭接長(zhǎng)度和有效評(píng)定長(zhǎng)度。 4.采用外透法單壁透照一環(huán)焊縫，內(nèi)徑為1000mm，壁厚為20mm，焦距取700mm，試用下圖求出最少透照次數(shù)。(一般給出模絡(luò)圖)